前言：晶圆去胶,晶圆表面活化
万国浙江晶圆去胶等离子清洗机SPV-100MWR-宣传视频
晟鼎精密的SPV-100MWR晶圆去胶等离子清洗机是一款高效清洗晶圆光刻胶的设备，产地位于东莞。
该清洗机采用了微波等离子技术，不仅能够快速有效地去除光刻胶，而且等离子体不带电，不会对电路造成损害。同时，该技术能在高气压下维持等离子体，反应速度快，反应时间短。
SPV-100MWR是一款半导体专用低压微波等离子清洗系统。通过对真空腔体壁上的窗口施加频率为2.45GHz的微波，产生大量且持续的Plasma，进入腔体对芯片进行工艺清洗。适用于不同尺寸的料盒，可满足不同需求，提供客制化解决方案，符合行业标准，且价格是进口品牌三分之二。
SPV-100MWR晶圆去胶等离子清洗机是一款优质的晶圆清洗设备，能够快速有效地去除光刻胶，为晶圆加工提供了可靠的支持。